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Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Some Properties of amorphous carbon films deposited on the grounded electrode of a RF-PECVD reactor from Ar-CH4 mixtures

Namita Dutta Gupta
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de génie électrique de Paris
Christophe Longeaud
Laboratoire de génie électrique de Paris
P. Chaudhuri
  • Fonction : Auteur
A. Bhaduri
  • Fonction : Auteur
S. Vignoli

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https://centralesupelec.hal.science/hal-00321707

Soumis le : lundi 15 septembre 2008-16:52:59

Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-11:53:50

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00321707 , version 1 (15-09-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00321707 , version 1

Citer

Namita Dutta Gupta, Christophe Longeaud, P. Chaudhuri, A. Bhaduri, S. Vignoli. Some Properties of amorphous carbon films deposited on the grounded electrode of a RF-PECVD reactor from Ar-CH4 mixtures. 21st International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors, 2005, Portugal. ⟨hal-00321707⟩

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