Some Properties of amorphous carbon films deposited on the grounded electrode of a RF-PECVD reactor from Ar-CH4 mixtures - CentraleSupélec Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Non-Crystalline Solids Année : 2006

Some Properties of amorphous carbon films deposited on the grounded electrode of a RF-PECVD reactor from Ar-CH4 mixtures

Namita Dutta Gupta
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de génie électrique de Paris
Christophe Longeaud
Laboratoire de génie électrique de Paris
P. Chaudhuri
  • Fonction : Auteur
A. Bhaduri
  • Fonction : Auteur
S. Vignoli

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https://centralesupelec.hal.science/hal-00321726

Soumis le : lundi 15 septembre 2008-17:22:04

Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-11:53:50

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00321726 , version 1 (15-09-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00321726 , version 1

Citer

Namita Dutta Gupta, Christophe Longeaud, P. Chaudhuri, A. Bhaduri, S. Vignoli. Some Properties of amorphous carbon films deposited on the grounded electrode of a RF-PECVD reactor from Ar-CH4 mixtures. Journal of Non-Crystalline Solids, 2006, 352, pp.1307-1309. ⟨hal-00321726⟩

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