Article Dans Une Revue
Journal of Non-Crystalline Solids
Année : 2008
Olivier Schneegans : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://centralesupelec.hal.science/hal-00350868
Soumis le : mercredi 7 janvier 2009-16:56:01
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-11:53:50
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00350868 , version 1
Citer
P. Chaudhuri, A. Bhaduri, A. Bandyopadhyay, S. Vignoli, P.P. Ray, et al.. High diffusion length silicon germanium alloy thin films deposited by pulsed rf PECVD method. Journal of Non-Crystalline Solids, 2008, 354, pp.2105. ⟨hal-00350868⟩
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