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Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Argon dilution as an alternative to hydrogen dilution for thin films deposition by rf-PECVD

Christophe Longeaud
Laboratoire de génie électrique de Paris
P. Chaudhuri
  • Fonction : Auteur

Olivier Schneegans  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://centralesupelec.hal.science/hal-00446002

Soumis le : lundi 11 janvier 2010-17:00:59

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:52

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00446002 , version 1 (11-01-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00446002 , version 1

Citer

Christophe Longeaud, P. Chaudhuri. Argon dilution as an alternative to hydrogen dilution for thin films deposition by rf-PECVD. 18th International photovoltaic science and engineering conference, 2009, Kolkata, India. pp.CD-Rom Proceedings. ⟨hal-00446002⟩

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