Density of states measurements of RF-power, SiF4 and CH4 –tuned-hydrogenated microcrystalline silicon carbon alloy thin films using Fourier transform photocurrent spectroscopy (FTPS)

N. Puspitosari; S. Gaiaschi; C. Longeaud; M.E. Gueunier; E. V. Johnson

Density of states measurements of RF-power, SiF4 and CH4 –tuned-hydrogenated microcrystalline silicon carbon alloy thin films using Fourier transform photocurrent spectroscopy (FTPS)

N. Puspitosari ¹ S. Gaiaschi ¹ C. Longeaud ¹ M.E. Gueunier E. V. Johnson

1 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris

Type de document :

Poster

Journées Nationales du Photovoltaïque 2015, Dec 2015, Dourdan, France

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Liste complète des métadonnées

https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01245742
Contributeur : Christophe Longeaud <>
Soumis le : jeudi 17 décembre 2015 - 15:43:23
Dernière modification le : jeudi 5 avril 2018 - 12:30:24

Density of states measurements of RF-power, SiF4 and CH4 –tuned-hydrogenated microcrystalline silicon carbon alloy thin films using Fourier transform photocurrent spectroscopy (FTPS)

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

49

Contact

Density of states measurements of RF-power, SiF4 and CH4 –tuned-hydrogenated microcrystalline silicon carbon alloy thin films using Fourier transform photocurrent spectroscopy (FTPS)

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

49

Contact