Fast Fourier transform scanning spreading resistance microscopy: a novel technique to overcome the limitations of classical conductive AFM techniques - CentraleSupélec Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Nanotechnology Année : 2015

Fast Fourier transform scanning spreading resistance microscopy: a novel technique to overcome the limitations of classical conductive AFM techniques

P Eyben
  • Fonction : Auteur
P Bisiaux
  • Fonction : Auteur
Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
A Schulze
  • Fonction : Auteur
PAREXEL International [Berlin]
A Nazir
  • Fonction : Auteur
Directorate-General for Antiquities and Museums
W Vandervorst
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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https://centralesupelec.hal.science/hal-01310822

Soumis le : mardi 3 mai 2016-11:10:54

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:02

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Dates et versions

hal-01310822 , version 1 (03-05-2016)

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Citer

P Eyben, P Bisiaux, A Schulze, A Nazir, W Vandervorst. Fast Fourier transform scanning spreading resistance microscopy: a novel technique to overcome the limitations of classical conductive AFM techniques. Nanotechnology, 2015, 26 (35), pp.355702. ⟨10.1088/0957-4484/26/35/355702⟩. ⟨hal-01310822⟩

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