Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Type de document :
Communication dans un congrès
NanoMetrology 2016, Jun 2016, Paris, France. pp.126, NANOTECH FRANCE 2016 - International Nanotechnology Conference
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Contributeur : Frédéric Houzé <>
Soumis le : lundi 23 mai 2016 - 15:48:22
Dernière modification le : jeudi 5 avril 2018 - 12:30:24

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  • HAL Id : hal-01320255, version 1

Citation

Aymeric Vecchiola, Pascal Chrétien, Karim Bouzehouane, Olivier Schneegans, Pierre Seneor, et al.. Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode. NanoMetrology 2016, Jun 2016, Paris, France. pp.126, NANOTECH FRANCE 2016 - International Nanotechnology Conference. 〈hal-01320255〉

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