Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Aymeric Vecchiola 1 Pascal Chrétien 2 Karim Bouzehouane 1 Olivier Schneegans 2 Pierre Seneor 1 Sergio Tatay 3 Frédéric Houzé 2
1 UMP CNRS/THALES - Unité mixte de physique CNRS/Thalès
2 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
3 Molecular Science Institute
Type de document :
Communication dans un congrès
NanoMetrology 2016, Jun 2016, Paris, France. pp.126, NANOTECH FRANCE 2016 - International Nanotechnology Conference
Liste complète des métadonnées
https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01320255
Contributeur : Frédéric Houzé <>
Soumis le : lundi 23 mai 2016 - 15:48:22
Dernière modification le : jeudi 5 avril 2018 - 12:30:24

Identifiants

  • HAL Id : hal-01320255, version 1

Collections

UPMC | GEEPS | CENTRALESUPELEC | PHEMADIC | UNIV-PARIS-SACLAY

Citation

Aymeric Vecchiola, Pascal Chrétien, Karim Bouzehouane, Olivier Schneegans, Pierre Seneor, et al.. Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode. NanoMetrology 2016, Jun 2016, Paris, France. pp.126, NANOTECH FRANCE 2016 - International Nanotechnology Conference. 〈hal-01320255〉

Exporter

BibTeX TEI DC DCterms EndNote

Partager

Métriques

Consultations de la notice

75

Contact

support.ccsd.cnrs.fr
hal.support@ccsd.cnrs.fr
Logo CCSD