Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Aymeric Vecchiola; Pascal Chrétien; Karim Bouzehouane; Olivier Schneegans; Pierre Seneor; Sergio Tatay; Frédéric Houzé

Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Aymeric Vecchiola ¹ Pascal Chrétien ² Karim Bouzehouane ¹ Olivier Schneegans ² Pierre Seneor ¹ Sergio Tatay ³ Frédéric Houzé ²

1 UMP CNRS/THALES - Unité mixte de physique CNRS/Thalès

2 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris

3 Molecular Science Institute

Type de document :

Communication dans un congrès

NanoMetrology 2016, Jun 2016, Paris, France. pp.126, NANOTECH FRANCE 2016 - International Nanotechnology Conference

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Liste complète des métadonnées

https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01320255
Contributeur : Frédéric Houzé <>
Soumis le : lundi 23 mai 2016 - 15:48:22
Dernière modification le : vendredi 31 août 2018 - 08:54:38

Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

90

Contact

Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

90

Contact