Data storage applications based on LiCoO2 thin films grown on Al2O3 and Si substrates

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Contributeur : Olivier Schneegans <>
Soumis le : mardi 23 août 2016 - 10:49:21
Dernière modification le : jeudi 5 avril 2018 - 12:30:24

Identifiants

  • HAL Id : hal-01355383, version 1

Citation

Efthymios Svoukis, C. N. Mihailescu, Van Huy Mai, Olivier Schneegans, A. Breza, et al.. Data storage applications based on LiCoO2 thin films grown on Al2O3 and Si substrates. E-MRS, Sep 2015, Varsovie, Poland. 〈hal-01355383〉

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