Atomic layer deposition of gallium phosphide for silicon based photovoltaics

A.S. Gudovskikh; I.A. Morozov; D. A. Kudryashov; E.V. Nikitina; A. S. Bukatin; Jean-Paul Kleider

Atomic layer deposition of gallium phosphide for silicon based photovoltaics

A.S. Gudovskikh ^{1, 2} I.A. Morozov ¹ D. A. Kudryashov ¹ E.V. Nikitina ¹ A. S. Bukatin Jean-Paul Kleider ³

1 Saint Petersburg Academic University

2 LETI - Saint Petersburg Electrotechnical University

3 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris

Type de document :

Communication dans un congrès

Photovoltaic Technical Conference, PVTC 2016, May 2016, Marseille, France

Domaine :

Physique [physics] / Matière Condensée [cond-mat] / Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Sciences de l'ingénieur [physics] / Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Sciences de l'ingénieur [physics] / Energie électrique

Sciences de l'ingénieur [physics] / Optique / photonique

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Liste complète des métadonnées

https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01363690
Contributeur : Jean-Paul Kleider <>
Soumis le : dimanche 11 septembre 2016 - 10:23:43
Dernière modification le : vendredi 16 novembre 2018 - 02:03:53

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