Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V for tandem solar cells

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Contributeur : Jean-Paul Kleider <>
Soumis le : vendredi 10 novembre 2017 - 18:13:21
Dernière modification le : vendredi 31 août 2018 - 08:54:38

Identifiants

  • HAL Id : hal-01632964, version 1

Citation

Gwenaelle Hamon, Nicolas Vaissière, Romain Cariou, Wanghua Chen, Martin Foldyna, et al.. Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V for tandem solar cells. International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces (ICFSI-16), Jul 2017, Hannover, Germany. 〈hal-01632964〉

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