Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V

Gwenaëlle Hamon (1) , Nicolas Vaissiere Vaissière (1) , Wanghua Chen (1) , J Alvarez (2) , Jean-Luc Maurice (1) , Jean Decobert (3) , Jean-Paul Kleider (2) , Pere Roca I Cabarrocas Roca I Cabarrocas (1)

1 LPICM - Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]
2 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
3 III-V Lab - Alcatel-Thalès III-V lab

Domaines: Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique; Energie électrique; Optique / photonique; Matériaux

Gwenaëlle Hamon, Nicolas Vaissiere Vaissière, Wanghua Chen, J Alvarez, Jean-Luc Maurice, et al.. Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V. EMRS Spring Meeting 2018, Jun 2018, Strasbourg, France. ⟨hal-01801476⟩