The role of oxygen in magnetron sputtered Ta3N5 films for water photoelectrolysis

Martin Rudolph 1, 2 D. Stanescu 3 J Alvarez 4 E. Foy 5 Jean-Paul Kleider 4 Hélène Magnan 3 Tiberiu Minea 1 Nathalie Herlin-Boime 2 B. Bouchet-Fabre 2 Marie-Christine Hugon 1
1 Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas – CNRS UMR 8578
2 LEDNA - Laboratoire Edifices Nanométriques
NIMBE UMR 3685 - Nanosciences et Innovation pour les Matériaux, la Biomédecine et l'Energie (ex SIS2M)
3 SPEC - UMR3680 - Service de physique de l'état condensé
4 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
5 LAPA - UMR 3685 - Laboratoire Archéomatériaux et Prévision de l'Altération
NIMBE UMR 3685 - Nanosciences et Innovation pour les Matériaux, la Biomédecine et l'Energie (ex SIS2M)
Type de document :
Communication dans un congrès
E-MRS 2016 Spring Meeting, May 2016, Lille, France
Liste complète des métadonnées
https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01363717
Contributeur : Jean-Paul Kleider <>
Soumis le : dimanche 11 septembre 2016 - 12:57:15
Dernière modification le : mercredi 23 janvier 2019 - 14:39:28

Identifiants

  • HAL Id : hal-01363717, version 1

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Citation

Martin Rudolph, D. Stanescu, J Alvarez, E. Foy, Jean-Paul Kleider, et al.. The role of oxygen in magnetron sputtered Ta3N5 films for water photoelectrolysis. E-MRS 2016 Spring Meeting, May 2016, Lille, France. 〈hal-01363717〉

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