The role of oxygen in magnetron sputtered Ta3N5 films for water photoelectrolysis
Martin Rudolph
(1, 2)
,
D. Stanescu
(3)
,
J Alvarez
(4)
,
E. Foy
(5, 6)
,
Jean-Paul Kleider
(4)
,
Hélène Magnan
(3)
,
Tiberiu Minea
(1)
,
Nathalie Herlin-Boime
(2)
,
B. Bouchet-Fabre
(2)
,
Marie-Christine Hugon
(1)
1
LPGP -
Laboratoire de physique des gaz et des plasmas
2 LEDNA - Laboratoire Edifices Nanométriques
3 SPEC - UMR3680 - Service de physique de l'état condensé
4 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
5 LAPA - UMR 3685 - Laboratoire Archéomatériaux et Prévision de l'Altération
6 IRAMAT - LMC - IRAMAT - Laboratoire Métallurgies et Cultures
2 LEDNA - Laboratoire Edifices Nanométriques
3 SPEC - UMR3680 - Service de physique de l'état condensé
4 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
5 LAPA - UMR 3685 - Laboratoire Archéomatériaux et Prévision de l'Altération
6 IRAMAT - LMC - IRAMAT - Laboratoire Métallurgies et Cultures
J Alvarez
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- IdHAL : jose-alvarez
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Jean-Paul Kleider
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Tiberiu Minea
- Function : Author
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