Oxydation avancée du naphtalène par procédé plasma froid à pression atmosphérique - CentraleSupélec Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Oxydation avancée du naphtalène par procédé plasma froid à pression atmosphérique

Ange Mfopara
  • Fonction : Auteur
Supélec Sciences des Systèmes
Mike Kirkpatrick
  • Fonction : Auteur
Supélec Sciences des Systèmes
Emmanuel Odic
Supélec Sciences des Systèmes
CV

Domaines

Energie électrique Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://centralesupelec.hal.science/hal-00421427

Soumis le : vendredi 2 octobre 2009-08:54:42

Dernière modification le : mardi 14 février 2023-03:35:29

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00421427 , version 1 (02-10-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00421427 , version 1

Citer

Ange Mfopara, Mike Kirkpatrick, Emmanuel Odic. Oxydation avancée du naphtalène par procédé plasma froid à pression atmosphérique. EF 2009, Sep 2009, Compiègne, France. pp.CD-Rom Proceedings. ⟨hal-00421427⟩

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